报告发布方：中金企信国际咨询《2024版全球及中国CVD碳化硅零部件行业研究预测报告-企业占有率、市场规模、竞争分析、发展趋势-中金企信发布》

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1）CVD碳化硅概述

化学气相沉积（CVD）是一种用于生产高纯度固体材料的真空沉积工艺，该工艺经常被半导体制造领域用于在晶圆表面形成薄膜。在CVD法制备碳化硅的过程中，基板暴露在一个或多个挥发性前驱体中，这些前驱体在基板表面发生化学反应，沉积生成所需的碳化硅沉积物。在制备碳化硅材料的众多方法中，化学气相沉积法制备的产品具有较高的均匀性和纯度，且该方法具有较强的工艺可控性。

CVD碳化硅材料因其具有出色的热、电和化学性质的独特组合，使其非常适合在需要高性能材料的半导体行业应用。CVD碳化硅零部件被广泛应用于刻蚀设备、MOCVD设备、Si外延设备和SiC外延设备、快速热处理设备等领域。碳化硅涂层石墨零部件产品及研发的实体碳化硅零部件均为采用化学气相沉积法制作的CVD碳化硅产品。

整体来看，CVD碳化硅零部件最大细分市场为刻蚀设备零部件。由于CVD碳化硅对含氯和含氟刻蚀气体的低反应性、导电性，使其成为等离子体刻蚀设备聚焦环等部件的理想材料。刻蚀设备中CVD碳化硅零部件包含聚焦环、气体喷淋头、托盘、边缘环等。以聚焦环为例，聚焦环是放置在晶圆外部、直接接触晶圆的重要部件，通过将电压施加到环上以聚焦通过环的等离子体，从而将等离子体聚焦在晶圆上以提高加工的均匀性。传统的聚焦环由硅或石英制成，随着集成电路微型化推进，集成电路制造对于刻蚀工艺的需求量、重要性不断增加，刻蚀用等离子体功率、能量持续提高，尤其是电容耦合（CCP）等离子体刻蚀设备中所需等离子体能量更高，因此碳化硅材料制备的聚焦环使用率越来越高。

2）CVD碳化硅零部件全球市场规模

根据中金企信数据统计及预测，2022年全球CVD碳化硅零部件市场规模达到8.13亿美元，预计2028年将达到14.32亿美元，年复合增长率（CAGR）为9.89%。

数据整理：中金企信国际咨询

3）CVD碳化硅零部件中国市场规模

根据中金企信数据统计及预测，2022年中国CVD碳化硅零部件市场规模达到2.00亿美元，预计2028年将达到4.26亿美元，年复合增长率（CAGR）为13.44%。

数据整理：中金企信国际咨询

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