据中金企信国际咨询公布的《2021-2027年中国贵金属靶材市场动态监测及竞争战略研究报告》统计数据显示：镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。

    贵金属靶材是指采用精炼、熔化锻造、压延加工或粉未冶金工艺制造的半导体器件、记录媒体显示器件等的配线和薄膜的贵金属及其合金的溅射靶材。Au、Pt、Pd、Ag靶材用于集成电路和大规模集成电路，CoCrPt、CoPt和CoPd等合金靶材用于磁记录。

    贵金属靶材的主要配套领域有冶炼、通信、网络、IT、医疗、家电等，配套领域产品技术水平的快速发展及其市场的快速增长，强有力地牵引着靶材技术的发展。到目前为止，贵金属靶材已发展成为产品种类齐全、品种规格丰富、结构型式多样、专业方向细分、行业特征明显、标准体系规范的系列化和专业化的产品。2016年全球靶材市场销售额达60亿美元，靶材消耗量达到170万片并以8.4％的年平均增长率增长。