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2024-2030年全球及中国稀土抛光粉市场监测调查及投资战略评估预测报告
(1)稀土抛光粉行业基本概述:稀土抛光粉的主要成分是氧化铈,因其优异的抛光效果也被誉为“抛光粉之王”。稀土抛光材料具有粒度均匀、硬度适中、抛光效率高、使用寿命长、抛光质量好、清洁环保等优点,广泛应用于液晶显示器、手机盖板玻璃、集成电路、光学玻璃、精密光学元件、高端饰品等领域的抛光。随着液晶显示器及3C产业的不断壮大,高性能稀土抛光材料成为电子及微电子信息产业发展的关键材料,并促进了我国稀土产业的发展,提高了稀土产品的附加值。
稀土抛光材料的“抛光机理”通常认为是物理研磨和化学研磨的共同作用。物理研磨特指稀土抛光材料对物体表面所进行的机械磨削作用,来平整微痕使其表面光滑。化学研磨是指稀土抛光材料中的氧化铈与硅基材料表面的硅醇键脱水形成氧桥基键,抑制硅基材料水解过程中的再沉积现象,从而提高抛光速率。
(2)产业发展历程分析:20世纪30年代,欧洲最早开始研发和使用稀土氧化物作为抛光材料。到20世纪60年代,国外开始采用稀土精矿作为原料制备并规模生产稀土抛光粉。20世纪90年代,国外的稀土抛光材料已形成标准化、系列化。全球稀土抛光粉生产企业主要集中在中国、日本、美国、法国、英国、韩国等国家,比较知名的生产厂商有日本的昭和电工株式会社、三井金属矿业株式会社、AGC清美化学株式会社、法国的罗地亚公司(现法国索尔维集团)、美国的嘉柏微电子材料股份有限公司等。其中,稀土抛光粉生产企业以日本为最多,不仅规模大,而且在国际市场上占有主要的市场份额。
我国自20世纪60年代开始研制稀土抛光粉,主要以混合稀土、氟碳铈矿和纯氧化铈为原料。70年代,稀土抛光粉取代传统的氧化铁用于玻璃抛光。90年代,稀土抛光粉的生产、应用及市场取得较大的进展。我国稀土抛光材料产业经历了由普通玻璃制造行业转向光电子显示行业,由传统应用到光电子高技术应用的提升过程。
(3)行业竞争格局分析:目前,我国稀土抛光粉生产企业参差不齐,小企业居多,形成规模化生产的企业少,在国际市场上很难具有竞争优势,且小企业产品基本雷同,导致竞争激烈利润低下、发展缓慢无序的状况。而少数的规模企业不断提升创新能力、优化生产工艺、提高产品质量,致力服务于高端领域,进而产生两级分化。同时,行业发展的两极分化也会带动整个行业进行资源整合,未来,行业龙头企业吞并弱小企业,实现规模效应、增强研发实力,进而使我国的稀土抛光粉在国际市场上具有一定的竞争力。
行业内专业型生产抛光材料的企业主要有法国罗地亚、日本昭和电工株式会社、日本三井化学株式会社、包头天骄清美稀土抛光粉有限公司、湖南皓志科技股份有限公司、上海华明高纳稀土新材料有限公司、山东鑫方园新材料科技有限公司等,可以分为如下三个梯队:
第一梯队是以法国罗地亚、日本昭和电工株式会社和日本三井化学株式会社等为代表的国际性综合型企业,其拥有先进、精确的生产设备,掌握了先进的生产技术工艺,在生产检测技术研究和市场应用开发等方面都有着较为明显优势。上述企业利用自身技术实力强、规模大、工艺流程先进、研发创新能力强等优势,占据了高端稀土抛光材料市场的较大份额,成为行业的领先企业。
第二梯队是以包头天骄清美稀土抛光粉有限公司、湖南皓志科技股份有限公司、上海华明高纳稀土新材料有限公司、山东鑫方园新材料科技有限公司等为代表的国内企业,专注于抛光材料的研发及生产,具有较大的生产规模和较强的产出能力,具备完善的研发能力,在技术上与日本企业较为接近,部分产品已经达到国际先进水平。上述企业受益于国内原料优势,产品价格较低,在市场上拥有一定的行业地位和竞争优势。
第三梯队是大量规模较小,生产设备简单,生产技术工艺水平相对较低,产品同质化严重的企业,占据抛光材料低端市场,主要通过低价竞争来抢占市场份额,市场利润水平比较低,企业发展速度比较缓慢。
(4)产量现状及发展前景:产量方面,国内稀土抛光材料的应用从20世纪80年代的不足40吨增长到2016年的1.8万吨左右。根据中国稀土行业协会统计,2021年,我国稀土抛光材料产量4.4万吨,同比增长29.7%。
目前我国中低档稀土抛光粉的规模和技术比较成熟,但在高端应用领域仍与国外存在一定差距,主要原因是国内产品质量的稳定性、精密控制等方面尚存在差距,主要表现在稀土抛光粉的颗粒控制技术、晶型和形貌控制技术等问题仍然存在,高性能稀土抛光材料中的大颗粒及异物控制难以降低等。随着智能手机、液晶电视等终端的高端化发展,稀土抛光粉逐渐走向高端化发展。未来随着国内光学、显示、集成电路和芯片市场对自主高端产品的需求不断增加,稀土抛光粉市场前景较好。
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